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三氟化氮(NF₃)是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮濕的環境中能發生反應：3NF₃＋5H₂O=2NO＋HNO₃＋9HF。下列有關該反應的說法正確的是( 　)

A．NF₃分子中所有原子共平面	B．NF₃在反應中既做氧化劑又做還原劑
C．生成0.2mol HNO₃時轉移0.2mol電子	D．氧化產物與還原產物的物質的量之比為2∶1

試題分析：A、NF₃的結構類似于NH₃，為三角錐，不共面，錯誤；B、NF₃中N元素的化合價為+3，部分升高為+5價，部分降低為+2價，既做氧化劑又做還原劑，正確；C、生成0.2mol HNO₃時轉移電子：0.2mol×2=0.4mol，錯誤；D、氧化產物為HNO₃，還原產物為NO，所以氧化產物與還原產物的物質的量之比為1:2，錯誤。

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（1）配平上述反應
（2）在含5molNaHSO₃的溶液中逐滴加入NaIO₃溶液。請計算開始產生單質I₂及產生單質I₂最大值時所滴入的NaIO₃的物質的量各是多少？
（3）25℃時，H₂SO₃