Question

【題目】由二氧化硅制高純硅的流程如下，下列判斷中錯誤的是

A. ①②③均屬于氧化還原反應(yīng) B. H2和HCl均可循環(huán)利用

C. SiO2是一種堅硬難熔的固體 D. SiHCl3摩爾質(zhì)量為135.5g

Answer 1

【答案】D

【解析】A．反應(yīng)①為SiO2+2CSi+2CO↑，反應(yīng)②Si（粗）+3HCl SiHCl3+H2，反應(yīng)③SiHCl3+H2 Si（粗）+3HCl，三個方程式中元素的化合價均發(fā)生變化，均屬于氧化還原反應(yīng)，故A正確；B．生產(chǎn)高純硅的流程示意圖可知，H2和HCl既是反應(yīng)物，又是生成物，所以可重復(fù)利用的物質(zhì)是H2和HCl，故B正確；C．SiO2是原子晶體，硬度大、熔點高，故C正確；D．SiHCl3摩爾質(zhì)量為135.5g/mol，故D錯誤；故選D。