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SiO₂是一種化工原料，可以制備一系列物質。下列說法正確的是（）

A．圖中所有反應都不屬于氧化還原反應

B．硅酸鹽的化學性質穩定，常用于制造光導纖維

C．可用鹽酸除去石英砂(主要成分為SiO₂)中少量的碳酸鈣

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

圖中SiO₂與CaO、CaCO₃、Na₂CO₃反應不屬于氧化還原反應，SiO₂與C、Si與Cl₂、SiCl₄與H₂的反應屬于氧化還原反應，A錯誤；光導纖維的主要成分是SiO₂而不是硅酸鹽，B錯誤；玻璃沒有固定的熔點，D錯誤。

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：單選題

諾貝爾物理學獎曾授予“光纖之父”英國華裔科學家高錕以及兩位美國科學家威拉德·博伊爾和喬治·史密斯。光導纖維的主要成分是二氧化硅，下列關于二氧化硅的說法正確的是

A．二氧化硅是酸性氧化物，因此能與水反應生成硅酸

B．用二氧化硅制取單質硅時，當生成2．24 L氣體（標準狀況）時，得到2．8 g硅

C．二氧化硅制成的光導纖維，由于導電能力強而被用于制造光纜

D．二氧化硅不能與碳酸鈉溶液反應，但能與碳酸鈉固體在高溫時發生反應

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：計算題

普通玻璃中，Na₂SiO₃、CaSiO₃、SiO₂的物質的量之比是Na₂SiO₃∶CaSiO₃∶SiO₂＝1∶1∶4。
(1)若以aNa₂O·bCaO·mSiO₂形式表示此玻璃的組成，則a∶b∶m＝____________。
(2)若要制備1 000 kg上述玻璃，需要原料各多少千克？共可產生標準狀況下的CO₂氣體多少升？

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：填空題

已知A、B、C、D、E、F、G、H可以發生如圖所示的轉化，反應中部分生成物已略去。其中，A、G為同一主族元素的單質，B、C、H在通常情況下為氣體，化合物C是一種形成酸雨的大氣污染物。

請完成以下填空：
（1）H的名稱是________。
（2）E的兩種用途是________、________。
（3）反應③的化學方程式是________。
（4）反應④的離子方程式是________。

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：填空題

硅酸鈉是一種重要的無機功能材料,某研究性學習小組設計的利用海邊的石英砂(含氯化鈉、氧化鐵等雜質)制備硅酸鈉的流程如下:

(1)石英砂加水洗滌的目的是。
研磨后加入NaOH溶液溶解的離子方程式是　。
(2)實驗室進行蒸發操作要用到的儀器有鐵架臺(含鐵圈)、　　　　和　　　　。
(3)殘渣Ⅰ的成分是　　　　(填化學式)。將殘渣Ⅰ溶于鹽酸,再加入NaOH溶液得到沉淀,將該沉淀加入到NaClO和NaOH混合溶液中可制得一種優質凈水劑,完成反應的離子方程式:　　　　　+　ClO^-+　OH^-

　　　　　+　Cl^-+　H₂O
(4)按上述流程制得的硅酸鈉晶體可表示為Na₂O·nSiO₂,若石英砂的質量為10.0 g,其中含SiO₂的質量分數為90%,最終得到硅酸鈉晶體15.2 g,則n=　　　　。

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：填空題

A元素的一種單質是一種重要的半導體材料，含A元素的一種化合物C可用于制造高性能的現代通訊材料——光導纖維，C與燒堿反應生成含A元素的化合物D。
（1）在元素周期表中，A位于第________族，與A同族但相對原子質量比A小的元素B的原子結構示意圖為________，A與B在原子的電子層結構上的相同點是_______________________。
（2）易與C發生化學反應的酸是______ （填名稱），反應的化學方程式是_______。
（3）將C與純堿混合高溫熔融時也發生化學反應生成D，同時還生成B的最高價氧化物E；將全部的E與全部的D在足量的水中混合后，又發生化學反應生成含A的化合物F。
①寫出生成D和F的化學方程式：______________________________________，___________________________________________________________________。
②要將NaOH高溫熔化，下列坩堝中不可選用的是_________________________。
A.普通玻璃坩堝 B.石英玻璃坩堝
C.氧化鋁坩堝 D.鐵坩堝
（4）100 g C與石灰石的混合物充分反應后生成的氣體在標準狀況下的體積為11.2 L，100 g混合物中石灰石的質量分數是________。

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：單選題

以色列科學家Danici Shcchtman因發現準晶體獲得2011年諾貝爾化學獎。人們在自然界中也找到了組成為Al₆₃Cu₂₄Fe₁₃的天然準晶體。將相同質量的此準晶體分別與足量的鹽酸、燒堿和稀硝酸反應，產生氣體的物質的量關系為

A．n（燒堿）<n（稀硝酸）<n（鹽酸）

B．n（燒堿）<n（鹽酸）<n（稀硝酸）

C．n（稀硝酸）<n（燒堿）<n（鹽酸）

D．n（鹽酸）<n（稀硝酸）<n（燒堿）

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：單選題

硅及其化合物在材料領域中應用廣泛。下列說法正確的是

A．硅酸鈉可用于制備木材防火劑	B．硅單質廣泛用于光纖通訊
C．利用鹽酸刻蝕石英制作藝術品	D．水晶項鏈是硅酸鹽制品

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科目：高中化學 來源：不詳 題型：填空題

硅是信息產業、太陽能電池光電轉化的基礎材料。鋅還原四氯化硅是一種有著良好應用前景的制備硅的方法，該制備過程示意如下：

（1）焦炭在過程Ⅰ中作______劑。
（2）過程Ⅱ中的Cl₂用電解飽和食鹽水制備，制備Cl₂的化學方程式是    。
（3）整個制備過程必須嚴格控制無水。
①SiCl₄遇水劇烈水解生成SiO₂和一種酸，反應的化學方程式是     。
②干燥Cl₂時，從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮，需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃，然后再通入到濃H₂SO₄中。冷卻的作用是    。
（4）Zn還原SiCl₄的反應如下：
反應1： 400℃～756℃ ，SiCl₄(g) + 2Zn(l)

Si(s) + 2ZnCl₂(l) ΔH₁ <0
反應2： 756℃～907℃ ，SiCl₄(g) + 2Zn(l)

Si(s) + 2ZnCl₂(g) ΔH₂ <0
反應3： 907℃～1410℃，SiCl₄(g) + 2Zn(g)

Si(s) + 2ZnCl₂(g) ΔH₃ <0
① 對于上述三個反應，下列說法合理的是_____。
a．升高溫度會提高SiCl₄的轉化率      b．還原過程需在無氧的氣氛中進行
c．增大壓強能提高反應的速率         d．Na、Mg可以代替Zn還原SiCl₄
② 實際制備過程選擇“反應3”，選擇的理由是    。
③ 已知Zn(l)=Zn(g) ΔH =" +116" KJ/mol 。若SiCl₄的轉化率均為90%，每投入1mol SiCl₄，“反應3”比“反應2”多放出_____kJ的熱量。
（5）用硅制作太陽能電池時，為減弱光在硅表面的反射，采用化學腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層。腐蝕劑常用稀HNO₃和HF的混合液。硅表面首先形成SiO₂，最后轉化為H₂SiF₆。用化學方程式表示SiO₂轉化為H₂SiF₆的過程     。

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