Question

15．硅是一種重要的半導體材料，應用范圍廣，三氯苯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程如圖所示：

（1）硅屬于非金屬（填“金屬”或“非金屬”）元素；
（2）上述流程中最后一步反應的化學方程式為SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl．
（3）如果還原SiHCl₃過程O₂，可能引起的后果是爆炸．
（4）該流程中可以循環利用的物質的化學式是HCl．

Answer 1

分析 （1）根據元素的名稱分析類別；
（2）分析流程中最后一步發生的反應寫出發生的化學方程式；
（3）根據氫氣和氧氣的混合氣體點燃時易發生爆炸分析回答；
（4）根據流程分析可以循環利用的物質．

解答 解：（1）硅的名稱中帶有“石”字旁，屬于非金屬；
（2）上述流程中最后一步反應的化學方程式為：SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl；
（3）如果還原SiHCl過程中混入O₂，會形成氫氣和氧氣混合氣體，點燃時易引起爆炸；
（4）該流程中可以循環利用的物質的化學式是HCl．
故答案為：（1）非金屬；
（2）SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl；
（3）爆炸；
（4）HCl．

點評 本題主要是考查學生的綜合分析能力，不但要求學生具備有關物質的基礎知識，而且要有實驗操作的經歷和分析、解決化學實驗問題的能力．