Question

【題目】2017年5月26日，Alpha Go人機配對賽開戰(zhàn)，Alpha Go的芯片主要以高純度的單質(zhì)硅(Si)為原料制成。在半導體硅元件生產(chǎn)中，常用氫氟酸(HF)來清除硅表面的氧化膜，反應原理可表示為SiO2＋6HF=H2SiF6＋2X。已知硅元素顯＋4價。下列說法錯誤的是(　　)

A.生成物X的化學式是H2OB.該反應是復分解反應

C.H2SiF6中氟元素顯-1價D.地殼中硅元素含量僅次于氧元素

Answer 1

【答案】B

【解析】

A、由SiO2+6HF═H2SiF6+2X可知，反應前后硅原子都是1個，反應前氧原子是2個，反應后應該是2個，包含在2X中，反應前氫原子是6個，反應后應該是6個，其中有4個包含在2X中，反應前后氟原子都是6個，因此生成物X的化學式是H2O，該選項說法正確；
B、該反應不是兩種化合物相互交換成分生成新的兩種化合物，不是復分解反應，該選項說法不正確；
C、H2SiF6中氫元素化合價是+1，硅元素化合價是+4，根據(jù)化合物中元素化合價代數(shù)和為零可知，氟元素顯-1價，該選項說法正確；
D、地殼中硅元素含量僅次于氧元素，該選項說法正確。
故選：B。