Question

【題目】(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)過程示意如下：

①整個(gè)制備過程必須達(dá)到無水無氧。在H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是_____________

②在生產(chǎn)過程中物質(zhì)A可循環(huán)使用，A的化學(xué)式是____________。

(2) 鈦和鈦合金被認(rèn)為是21世紀(jì)的重要金屬材料，冶煉金屬鈦時(shí)，將鐵鐵礦石轉(zhuǎn)化為下TiCl4，TiCl4再與Na在一定條件下反應(yīng)生成Ti和NaCl。請寫出后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式：__________________(不要求標(biāo)反應(yīng)條件)，其反應(yīng)類型是_________________。

Answer 1

【答案】 發(fā)生爆炸(生成的硅也會被氧化) HCl TiCl4＋4Na===Ti＋4NaCl 置換反應(yīng)

【解析】①點(diǎn)燃或加熱可燃性氣體與空氣的混合物可能發(fā)生爆炸。在H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是爆炸，同時(shí)硅在高溫下易與氧氣的反應(yīng)而被氧化；②在上述生產(chǎn)流程中由粗硅到三氯甲硅烷和由三氯甲硅烷到高純硅是兩個(gè)相反的過程，在生產(chǎn)過程中物質(zhì)A可循環(huán)使用，A的化學(xué)式是HCl；(2) TiCl4再與Na在一定條件下反應(yīng)生成Ti和NaCl。反應(yīng)的化學(xué)方程式：TiCl4＋4Na===Ti＋4NaCl，其反應(yīng)類型是由一種單質(zhì)和一種化合物生成另一種單質(zhì)和另一種化合物的置換反應(yīng)。